GB/T 14143-1993 300？900 UM 硅片间隙氧含量红外吸收测量方法
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时间:2024-05-05 00:52:36
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基本信息
| 标准名称： | 300？900 UM 硅片间隙氧含量红外吸收测量方法 |
| 英文名称： | 300～900μm Silicon slices－Measuring of interstitial oxygen content－Infrared absorption method |
| 中标分类： | 冶金 >> 金属理化性能试验方法 >> 金属无损检验方法 |
| ICS分类： | |
| 替代情况： | 被GB/T 1557-2006代替 |
| 发布部门： | 国家技术监督局 |
| 发布日期： | 1993-02-06 |
| 实施日期： | 1993-10-01 |
| 首发日期： | 1993-02-06 |
| 作废日期： | 2006-11-01 |
| 主管部门： | 中国有色金属工业协会 |
| 归口单位： | 中国有色金属工业协会 |
| 起草单位： | 机电部第四十六研究所 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 1900-01-01 |
| 页数： | 平装16开， 页数：6， 字数：9千字 |
适用范围
本标准规定了用红外吸收法测定厚度为300~900μm的硅片间隙氧含量的方法。本标准适用于室温电阻率大于0.1Ω·cm的硅片间隙氧含量的测量。
前言
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所属分类： 冶金 金属理化性能试验方法 金属无损检验方法
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